Torriden Dive In Cleansing Foam to pianka oczyszczająca z niskocząsteczkowym kwasem hialuronowym, odpowiednia do wszystkich rodzajów skóry, w tym skóry odwodnionej. Oczyszcza skórę bez uczucia ściągnięcia.
Piankę spienia się z niewielkiej ilości żelu i wody, a następnie nakłada na zwilżoną twarz okrężnymi ruchami i spłukuje letnią wodą. Niskocząsteczkowy kwas hialuronowy łatwiej przenika do skóry niż jego klasyczna forma, dzięki czemu po umyciu skóra pozostaje nawilżona nawet po oczyszczaniu, a nie ściągnięta.
Dzięki delikatnej pianie usuwa makijaż, sebum i zanieczyszczenia, jednocześnie nie naruszając naturalnej bariery ochronnej skóry. Sprawdzi się w porannej i wieczornej rutynie jako pierwszy lub jedyny etap oczyszczania.
Odpowiednia do skóry, która po użyciu zwykłego żelu oczyszczającego odczuwa ściągnięcie lub suchość - dobrze sprawdza się także w połączeniu z innymi produktami z serii Dive In.
Najczęściej zadawane pytania
Czy pianka powoduje uczucie ściągnięcia skóry po umyciu?
Nie, dzięki kwasowi hialuronowemu skóra pozostaje nawilżona po oczyszczaniu.
Czy nadaje się do skóry wrażliwej?
Tak, formuła jest przeznaczona do wszystkich rodzajów skóry, w tym skóry odwodnionej.
Czy pianka usuwa również makijaż?
Radzi sobie z lekkim codziennym makijażem, natomiast w przypadku mocniejszego makijażu zalecamy wcześniejsze wykonanie demakijażu olejkiem.
Typ: Pianka oczyszczająca · Objętość: 150 ml · Zaktualizowano: 04.09.2026
Informacje o produkcie i bezpieczeństwie
Producent: Torriden Co., Ltd., 2F, 10-3 Doanbuk-ro 93beon-gil, Seo-gu, Daejeon 35350, Korea Południowa; e-mail: info@torriden.com. Osoba odpowiedzialna w UE wskazana na sprzedawanych opakowaniach może różnić się w zależności od partii; należy sprawdzić jej oznaczenie na konkretnym opakowaniu.
Identyfikacja produktu: Torriden Dive In Low Molecular Hyaluronic Acid Cleansing Foam 150 ml · SKU: 176927.
Informacje dotyczące bezpieczeństwa: Produkt kosmetyczny wyłącznie do użytku zewnętrznego. Unikać kontaktu z oczami; w przypadku podrażnienia przerwać stosowanie.